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한국기술교육대학교는 “반도체 분야 전문인력”을 체계적 양성하고자반도체 공정을 위한 클린룸*의 환경을 종합적으로 개선하고, 다양한 반도체 공정 실습을 통해 반도체 실무 기술을 익히기 위한 제조공정장비를 확대 구축 하였다.

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한기대 클린룸은 신성장동력산업 인력양성을 위해 825m2 면적으로 2010년도에 처음 구축되었고, CVD, PVD 등 50여종 100억 상당의 장비가 초기 가동 중으로 당시만 해도 대학에 설치된 유일한 반도제 제조 공정 실습 전문 시설이었다. 올해 초 확대 구축된 장비는 웨이퍼증착적층기(PECVD), 전기로, 진공증착기등으로 6인치 팹(Fab) 공정 전체를 통합 실습할 수 있도록 개선되었다.

 

클린룸을 종합 운영하고 있는 한기대 능력개발교육원의 이진구 원장은 “한국반도체산업 협회에 따르면 국내 반도체 인력은 오는 2031년 30만 4,000명이 필요하지만 실제로는 5만 4,000여명이 부족할 전망으로, 인력확보는 반도체 산업에서 난제로 꼽힌다”면서, 한기대에서 개발한 반도체 기술교육 로드맵(TTR)을 기반으로 우리 대학, 훈련기관, 직업계고를 통해 맞춤형 인재를 양성할 수 있도록 클린룸을 최대한 이용할 계획이라고 밝혔다.